定制设计环境中的数字布局与绕线
有一类高端集成电路(IC) – 通常称为「analog-on-top」,因为顶层描述是通过SPICE网表(netlist) 描述的– 以模拟电路为主而附带数字功能的模块。目前为止,这些数字模块相对较小,通常每个都包含数十、数百或(偶而)数千逻辑单元。这些模块通常是模拟设计人员运用传统定制设计掌握与Layout技术而以手工制作的。

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符合OPENACCESS标准的缓存技术
在计算机程序中,我们使用缓存技术将常用功能的结果储存到磁盘上,所以当我们执行重复的指令时,就可以不必重复执行,却能够更快速地获得结果。同样的技术也可用来加速定制IC设计中参数化单元(parameterized cell,PCells)的显示。有些电子设计自动化(EDA)工具会自动缓存PCells以提高效能;有些要求额外的授权;而其他则完全不提供快速读取能力。除了效能优势以外,PCell缓存技术还可以让设计流程中其他的工具能够读取并使用工具专属的PCells。

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定制集成电路设计专用制程设计套件(PDKs)
设计半导体芯片需要一套物理与电子设计规范,以规定最低的制造要求和说明符合规范时的设计功能。为了传达制造要求与器件效能给集成电路(IC)设计人员,并协助他们正确地实现设计,电子设计自动化(EDA)供应商与TSMC、UMC、SMIC和Chartered Semiconductor Manufacturing等外包晶圆厂(纯代工晶圆厂)合作,开发了制程设计套件(Process Design Kits,PDKs)观念。「PDK」中的「制程」代表设计套件目标的特定半导体制造技术。

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Laker定制IC版图参数化器件
参数化器件(Pdevice)运用于模拟与定制数字集成电路的设计中,允许替换不同的值以对应特定维度变量(参数)的需要,取代许多固定的单元。例如,一个适用于NMOS晶体管的Pdevice,改变设计中各器件特定处理程序的栅长等参数,就能够替代几乎无限量的该种器件。 以电路图形式设计的模拟电路运用符号来对应特定器件。开始版图之前,电路设计人员会设定个别器件的参数值。放置Pdevices时,产生的版图会自动反映指定的值,使用者不必手绘任何一个形体。Pdevices不仅可以节省大量的手工版图时间;还可以促进更高水平的自动化,提高固有的生产力。 大家公认 Cadence®开发了第一个成功的商用Pdevices,称为「PCells」(参数化单元)。现在,这个名词已经司空见惯,使「参数化器件」几乎等同于「PCells」。Laker™定制IC版图系统除了PCells之外,还提供几种不同的Pdevices,但是「PCell」是通称,我们最好先说明PCells,以便做为说明其他参数化器件时的参考。

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互操作性iPDK
2009年7月21日,TSMC宣布,业界首创的具相互操作性制程设计套件(iPDK)开始供货。这个套件通过TSMC的65奈米(nm) MS/RF制程的完整验证,而且各大EDA供货商也宣布提供支持,包括Cadence、Ciranova、Magma、Mentor、SpringSoft、Synopsys等等。2010年3月24日,TSMC加入为会员的具相互操作性PDK链接库(Interoperable PDK Libraries,IPL)联盟发表IPL 1.0标准,让整个业界都能够享用TSMC iPDK的重要技术。

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先进的电路驱动版图自动化
电路设计越来越庞大而且复杂。如同在IC设计流程中大多数的步骤中一般,定制版图(Custom layout)也越来越乏味而且耗时。设计人员总是寻找更好的工具想使流程自动化,并帮助自己提高生产力。电路驱动版图(Schematic-driven layout,SDL)是一种设计方法,提供自动化与逻辑和版图之间的连贯性,帮助设计人员进行电路的实体设计实现工作。SDL仰赖器件产生技术,以实现从电路元素建立实体版图的自动化。

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可控制式自动化与相互操作性标准
大型数字集成电路(IC)设计的版图通常都是使用高度自动化的版图与绕线(APR)工具而建立的。尽管使用APR取代定制版图存在着许多争议,然而对大多数设计而言,APR的速度与掌握度等优势依然胜过面积或效能上的牺牲;但是,需要最高效能或最小面积的设计仍然依赖「手工」运用定制IC版图方法来完成。 在新一代的定制芯片中,复杂的规则、紧迫的上市时程以及纤薄尺寸与设计复杂度,使整个定制数字区块的设计越来越难以实现。全自动化的APR流程无法提供必要的版图与绕线的互动掌控。设计人员需要高度自动化而且可控制的全定制数字IC设计流程,获致最佳的效能、速度与面积。

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人们携手合作,EDA工具也能够密切协作
2006年底,5大电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)软件公司一致同意,合作建立和配置具有相互操作性的PCell链接库和搭配运用的开放式基础架构。这个通过观念验证的PCell链接库在6个月之内就完成开发而发表,并且不到1年就在2007年秋季 Si2 OpenAccess大会上展示,在5大EDA公司的8种不同工具上运作。从此以后,链接库被下载次数超过了1,000次。这种不寻常的竞争者聚会证明了集成电路(IC)设计工具供应链协作的优势。

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