2006年底，5大电子设计自动化(Electronic Design Automation，EDA)软件公司一致同意，合作建立和配置具有相互操作性的PCell链接库和搭配运用的开放式基础架构。这个通过观念验证的PCell链接库在6个月之内就完成开发而发表，并且不到1年就在2007年秋季 Si2 OpenAccess大会上展示，在5大EDA公司的8种不同工具上运作。从此以后，链接库被下载次数超过了1,000次。这种不寻常的竞争者聚会证明了集成电路(IC)设计工具供应链协作的优势。
传统作法
过去，IC设计流程就是通过运用各种软件脚本撰写与多种数据格式转译，由一群单点设计工具纠合而成的可行设计方法或「流程」。这种方式已经运用了很长一段时间 –——有时甚至是软件工具供货商用于自己的工具集中 –——用来汇集「各自为政」的应用软件专业，以无法各自独立运作的多种工具，建立更高效率的设计「流程」。用户表示，相对于商用EDA软件工具的每一美元费用而言，设计工具整合需要2到4美元(或更高)的成本。在晶圆制程归属于不连贯制程的时代，在半导体制造中就可以发现类似的道理——通常由硬件工具本身所定义——并且以手工方式在机器与机器之间移动晶圆。最终，需要而且履行机器接口标准、自动化晶元处理和工厂自动化软件的客户都可以享受庞大的效率优势。设备业界供应链齐聚一堂以开发标准，而且每一份子 – 供货商、晶圆厂与客户 – 都因为这项合作而受益匪浅。
现在有许多标准帮助实现了多重工具设计流程，但是却没有足够标准能提供基础架构以实现顺畅的相互操作性。自称为可相互操作PDK链接库(Interoperable PDK Library，IPL)联盟的组织，就是协同合作以建立定制IC设计专享开放式环境的绝佳实例。
当IPL联盟创始会员 – AWR、Ciranova、Silicon Navigator、SpringSoft与Synopsys – 首度会面时，第一项任务就是采纳硅芯片整合联盟(Silicon Integration Alliance，Si2)的EDA数据库开放存取(Open Access，OA)标准。过去，EDA公司处于产品开发的便利，也因为感觉到自己独家的版本提供自己独家产品的竞争优势，开发了专利数据库。外部供货商存取这些专利数据库仅限于特定的加值第三方工具，而且通常需要复杂的数据转换才能够在工具之间传递数据。因为创新通常从小处开始，通过合并或者并购而获得技术的企业，常常发现自己的一大堆工具没有使用相同的数据库。当然，尝试运用不同供货商的工具来建立同级最佳设计流程的客户，会面临复杂的挑战；甚至于，尝试以自己专利工具来整合商用工具的客户，会遭遇到更糟糕的问题。
